第七百二十四章 调试测验
- 作者:新安小胖A
- 类型:浪漫青春
- 更新时间:2024-04-20 00:29:33
- 章节字数:2270字
光刻机需要工作在超高无尘环境下,刚刚组装完成的测试样机正在无尘车间内安装调试。刘焱换了一身白色防尘服,戴上防尘帽,通过风淋间进入无尘车间。
此时是上午十点左右,处于每天的早班时间,晶圆工厂的四条芯片生产线正在全力运作,数千名工人,正在生产线上,有条不紊的工作。走过生产区域,进入测试区域,以姜安平为首的几十名研究人员,正围在一台一人多高的设备,做最后的调试,旁边还有几名维创电子公司的高管站在那里围观。
刘焱凑上前去,朝研发二部部长乌光辉问道:
“这台就是光刻机研发实验室制作出的第一台光刻机吗?什么时候能开始光刻测试?”
听到有人提问,阳威力、金小雅等人同时转头看过来,见是老板刘焱,纷纷打招呼问好,乌光辉出声给刘焱解释道:
“对,就是这台机器,昨天组装完成之后,第一时间就从研发大楼搬运到了无尘车间,经过一天一夜的安装调试,现在已经差不多可以开始了。”
刘焱满意的点点头,围着光刻机转了一圈,这台设备为全封闭结构,就像一个四四方方的铁皮文件柜,外壳喷涂成了乳白色,左右两侧,设置有硅晶圆入口和出口,靠外一侧安装着一个控制面板和一台大屁股显示器。
刘焱有些疑惑的问道:
“看外表,我们这台光刻机似乎和J能、N康的光刻机都不太一样,这是对外壳进行了优化吗?”
乌光辉摇摇头之后说道:
“我们不光优化了外壳,同时也优化了部分内部结构。
老板你提供的资料里不是有一部分0.5微米光刻机的预研资料吗,姜教授他们研发一微米光刻机的时候,参考了0.5微米光刻机的内部结构,对设计图进行了一些更改优化。
从理论上来说,这些优化对晶圆的加工速度和加工精度,应该都有所提升,实际情况如何,还需要测试过后才知道。”
姜安平等人又忙活了半个多小时,光刻机终于调试完成,将提前准备好的掩膜版固定到掩膜版工作台上。阳威力通过对讲机沟通,让一位名为柏巧玲的女工,送来了几十片已经涂好光刻胶的硅晶圆。
姜安平亲自动手,将硅晶圆安置到光刻机晶圆入口处的支架上,然后按下操作面板上的启动按钮。
光刻机内部传出细微的机械转动声音,一张硅晶圆被机械臂送进光刻机内部,在深色玻璃观察窗上,亮起一抹深邃的紫色光芒,开始对硅晶圆进行加工。
见状,刘焱出声询问道:
“这台光刻机使用的是哪种光源,是高压汞灯产生的436nmg-line和365nmi-line,还是248nm的KrF准分子激光作为光源?”
乌光辉回答道:
“现在使用的是高压汞灯产生的365nmi-line作为光刻光源,理论上,这种光源能一直将光刻机的加工精度提升到0.35微米,作为未来一两代光刻机的光源足够使用了。
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